在高精度薄膜分析的光譜橢偏儀之上，增加安裝了測(cè)量角度可自動(dòng)變化裝置,可對(duì)應(yīng)所有種類(lèi)的薄膜。在傳統(tǒng)旋轉(zhuǎn)分析儀法之上，通過(guò)安裝相位差板自動(dòng)分離裝置，提高了測(cè)量精度。
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產(chǎn)品特點(diǎn)：
可在紫外和可見(jiàn)（250至800nm）波長(zhǎng)區(qū)域中測(cè)量橢圓參數(shù)
可分析納米級(jí)多層薄膜的厚度
可以通過(guò)超過(guò)400ch的多通道光譜快速測(cè)量Ellipso光譜
通過(guò)可變反射角測(cè)量，可詳細(xì)分析薄膜
通過(guò)創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)和追加菜單注冊(cè)功能，增強(qiáng)操作便利性
通過(guò)層膜貼合分析的光學(xué)常數(shù)測(cè)量可控制膜厚度/膜質(zhì)量
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測(cè)量項(xiàng)目：
測(cè)量橢圓參數(shù)（TANψ，COSΔ）
光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
薄膜厚度分析
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產(chǎn)品用途：
半導(dǎo)體晶圓
柵氧化膜，氮化膜
SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe，BPSG，TiN
光學(xué)常數(shù)（波長(zhǎng)色散）
復(fù)合半導(dǎo)體
AlxGa（1-x）多層膜、非晶硅
FPD
取向膜
等離子顯示器用ITO、MgO等
各種新材料
DLC（類(lèi)金剛石碳）、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜
光學(xué)薄膜
TiO2，SiO2多層膜、防反射膜、反射膜
光刻領(lǐng)域
g線（436nm）、h線（405nm）、i線（365nm）和KrF（248nm）等波長(zhǎng)的n、k評(píng)估
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產(chǎn)品原理：
包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上，對(duì)于反射光的橢圓偏振光進(jìn)行測(cè)量。s波和p波的位相和振幅獨(dú)立變化，可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù)，即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
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