使用顯微光譜法在微小區(qū)域內(nèi)通過絕對反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數(shù)分析。
可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數(shù)的軟件。
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產(chǎn)品特點：
頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
通過顯微光譜法測量高精度絕對反射率（多層膜厚度，光學常數(shù)）
1點1秒高速測量
顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外至近紅外）
區(qū)域傳感器的安全機制
易于分析向?qū)В鯇W者也能夠進行光學常數(shù)分析
獨立測量頭對應各種inline客制化需求
支持各種自定義
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OPTM-A1 |
OPTM-A2 |
OPTM-A3 |
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波長范圍 |
230 ~ 800 nm |
360 ~ 1100 nm |
900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 |
1nm ~ 35μm |
7nm ~ 49μm |
16nm ~ 92μm |
測定時間 |
1秒 / 1點 |
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光斑大小 |
10μm (最小約5μm) |
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感光元件 |
CCD |
InGaAs |
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光源規(guī)格 |
氘燈+鹵素燈 ? |
鹵素燈 |
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電源規(guī)格 |
AC100V±10V 750VA（自動樣品臺規(guī)格） |
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尺寸 |
555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規(guī)格之主體部分) |
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重量 |
約 55kg（自動樣品臺規(guī)格之主體部分） |
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測量項目：
絕對反射率測量
多層膜解析
光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）
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